Наноиндустрия

КБ «Спектр»: Планируется запустить серийное производство детали для скоростных дронов ПВО

В Новосибирске (Россия) планируется запустить серийное производство детали для скоростных FPV-дронов противовоздушной обороны (ПВО). Об этом со ссылкой на исполнительного директора конструкторского бюро (КБ) «Спектр» Андрея Братенькова сообщает ТАСС.

Такой подход избавляет от необходимости в передовых литографических системах DUV

Российские разработчики рассматривают фотонные вычислители как специализированную альтернативу графическим процессорам в отдельных задачах искусственного интеллекта.

«Микрон», «Ангстрем» и «НМ-Тех» могут получить доступ к китайским фабрикам через новую компанию

 Создаваемая в России «Объединенная микроэлектронная компания» (ОМК) рассматривает возможность покупки долей в нескольких китайских полупроводниковых предприятиях. Изображение сгенерировано ChatGPT

Британская компания MSI Defence представила дистанционно управляемый боевой модуль TERRAHAWK RAPTOR, разработанный специально для борьбы с БПЛА. Он может быть оснащен 7,62-мм или 12,7-мм пулеметом, кроме того, предполагается установка 40-мм автоматического гранатомета.

Российская разработка расширит возможности небольших спутников

Инженеры Московского авиационного института и Самарского университета имени С. П. Королева создали импульсный плазменный двигатель для наноспутников массой до 10 кг.

Российские инженеры разработали газовый двигатель для наноспутников, который повысит маневренность космических аппаратов и позволит объединять их в многоспутниковые группировки.

Первая российская литографическая установка для производства чипов по технологии 350 нм должна быть сдана заказчику в самом конце 2026 года. Первый экземпляр литографа будет отгружен интегрированной в холдинг «Швабе» компании «Маппер», а второй экземпляр установки достанется фирме «Отраслевые решения» из ГК «Элемент».

Первый созданный после 1991 года российский литограф выходит на рынок: поставка столичному предприятию «Маппер» первой серийной машины «Прогресс СТП-350» намечена на декабрь 2026 года. Вторая в серии установка уйдёт «Отраслевым решениям».

И при этом не нужны маски

В России разработали установку электронно-лучевой литографии с проектными нормами 150 нм, её создал Зеленоградский нанотехнологический центр (ЗНТЦ). Два опытных образца уже проходят комплексные испытания, которые продлятся около четырех месяцев.

Китайский стартап в сфере производства микросхем запустил, как утверждается, первую в мире производственную линию для двумерных (2D) полупроводников на 200 мм пластинах.