Источник изображения: topwar.ru
В полупроводниковой отрасли разгорелся новый скандал. Министр торговли США Говард Лютник выразил серьёзную обеспокоенность возможной «секретной» поставкой Китаю литографических систем EUV от ASML. Однако в отрасли это заявление встретило волну скепсиса и насмешек, особенно в китайском сегменте.
Дело в том, что EUV-сканер — это отнюдь не компактное устройство, чтобы его можно было «секретно» и незаметно поставить в Китай. Машина весит около 180 тонн, перевозится в качестве спецгруза и требует кропотливой установки, калибровки и постоянной сервисной поддержки высокого уровня технологичности. Сам же по себе EUV-сканер представляет на сегодняшний день наиболее передовую литографическую машину для производства современных полупроводников.
Идея о «секретной» отправке такой махины без ведома США и ASML выглядит для экспертов практически анекдотичной. ASML категорически опровергла передачу Китаю каких-либо EUV-систем или специализированных компонентов для них.
Тем не менее инцидент высветил фундаментальную проблему китайской полупроводниковой отрасли. Литография остаётся одним из главных узких мест на пути к технологическому суверенитету.
В чём разница между DUV и EUV? DUV- (глубокий ультрафиолет - использует длины волн 193 нм (ArF) и 248 нм (KrF). Современные иммерсионные системы позволяют производить сложные чипы, но требуют множественных этапов экспонирования и крайне точного контроля. EUV работает с длиной волны всего 13,5 нм, что даёт значительно лучшее разрешение при меньшем числе шагов. Однако технология крайне сложна: плазменный источник света на оловянных каплях, рефлекторная оптика (зеркала вместо линз) и глобальная цепочка поставок высокого уровня.
Пока Пекин ищет обходные пути, Вашингтон продолжает усиливать давление, стремясь максимально затормозить прогресс китайской полупроводниковой индустрии.
