В России планируют создать 90-нм литограф
По словам Василия Шпака, занимающего пост заместителя главы Минпромторга, которые он привел в ходе XXI конференции радиоэлектронной промышленности, в этом году в России планируется приступить к разработке отечественного литографа, рассчитанного на выпуск чипов на нормам 90 нм.
Исполнитель данного проекта будет выбран по итогам проведенного конкурса. С большой долей вероятности разработкой установки займутся специалисты Зеленоградского нанотехнологического центра, имеющие соответствующий опыт. К примеру, они совместно со своими коллегами из белорусского «Планара» работают над 350 и 130-нм литографами. Впрочем, в ЗНТЦ заявили, что решение о принятии участия в конкурсе на сегодняшний день не принято, так как предприятие планирует осенью этого года завершить основные работы по 130-нанометровой установке, которые требуют значительного времени и соответствующих кадровых ресурсов. Как предполагают отраслевые аналитики, отечественный литограф на 90-нм техпроцессе на базе уже существующего 350-нм решения можно создать максимум за четыре года, а сам проект потребует несколько сотен миллионов долларов. При этом имеются сложности не только с самим оборудованием, но и с доступностью соответствующей оптики, необходимых фотошаблонов и материалов.
Макс Антонов
